完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
---|---|---|
dc.contributor.author | 許明裕 | en_US |
dc.contributor.author | Xu, Ming-Yu | en_US |
dc.contributor.author | 李建平 | en_US |
dc.contributor.author | Li, Jian-Ping | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:12:57Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:12:57Z | - |
dc.date.issued | 1993 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT824430002 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/58654 | - |
dc.description.abstract | 第一章 導論 第二章 發光多孔矽的形成機制與理論 2.1 矽晶片表面的電化學反應 2.2 多孔矽形成的物理機制 2.3 影響多孔矽發光的原因 2.3.1 量子效應 2.3.2 矽化物siloxene 第三章 發光多孔矽之研究 3.1 電化學陽極反應系統 3.2 實驗步驟 3.3 結果與討論 第四章 多孔矽╱鍺合金之發光研究 4.1 發光來自於表面的多孔Si□Ge□薄膜 4.1.1 實驗步驟 4.1.2 結果與討論 4.2 多孔矽、多孔Si□Ge□發光與表面Si-Hn 鍵的關係 4.2.1 實驗步驟 4.2.2 結果與討論 4.3 反應時間對多孔Si□Ge□發光的影響 4.3.1 實驗步驟 4.3.2 結果與討論 4.4 Ge含量變化對多孔Si□Ge□發光的影響 4.4.1 實驗步驟 4.4.2 結果與討論 4.5 反應時間對較薄的Si□Ge□薄膜發光的影響 4.5.1 實驗步驟 4.5.2 結果與討論 4.6 由Si╱Si□Ge□的異質結構來研究其發光情形 4.6.1 實驗步驟 4.6.2 結果與討論 4.7 不同Si□Ge□薄膜的發光研究 4.7.1 實驗步驟 4.7.2 結果與討論 第五章 多孔Si╱Si-B﹢超晶格的發光研究 5.1 實驗步驟 5.2 結果與討論 第六章 多孔結構的電性研究 6.1 實驗步驟 6.2 結果與討論 第七章 結論 | zh_TW |
dc.language.iso | en_US | en_US |
dc.subject | 多孔矽 | zh_TW |
dc.subject | 鍺合金 | zh_TW |
dc.subject | 發光研究 | zh_TW |
dc.subject | 電子工程 | zh_TW |
dc.subject | 電化學陽極反應 | zh_TW |
dc.subject | ELECTRONIC-ENGINEERING | en_US |
dc.subject | Electrochemical Anodization | en_US |
dc.title | 多孔矽與多孔矽/鍺合金的發光研究 | zh_TW |
dc.title | Luminescence properties of porous Si and porous SiGe | en_US |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 電子研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |