标题: | 利用电子束微影系统制作分怖回馈半导体雷射的二阶光栅 2nd Order DFB Laser Grating Fabrication by E-Beam Lithography |
作者: | 涂结盛 Ja-Son Tu 辛伟;高曜煌 Wei Hsin ; Y.H. Kao 电信工程研究所 |
关键字: | 二阶光栅;电子束微影;半导体雷射;DFB,Grating,E-Beam Lithography,Leica EBL-300, |
公开日期: | 1994 |
摘要: | 我们利用了电子束微影系统来制作我们要的二阶光栅.在这制作过程中,我 们利用了两种阻液, 一个为正光阻ZEP520, 一个为负光阻 SAL601 ER-7在 这制作过程中, 会因为我们所选的阻液之感光度的不同以及电子本身的一 些特性和碎片晶片对焦的问题, 导至我们最初实验的结果不甚理想 ,我们 将提出一些改进的方法 .最后我们将把成功的二阶光栅的各个参数及电子 显微镜所拍的二阶光栅的图型列出来, 以做为将来制作一阶光栅及圆形光 栅的一个参考的依据 . We fabricate 2nd order grating of DFB laser by E-beam lithograp- hy . We choose two kinds of resist , one is positive resist ZEP- 520 , another is negative resist SAl 601 ER-7 . In our fabricay- ion process will be strongly affected by electron scattering and focusing of the e-beam . We will offer some improvement methods. Finally,we show our successful grating SEM picture and thier pa- rameters . It will be served as a guide line for developing the 1st order grating or circular grating in the future . |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT830436061 http://hdl.handle.net/11536/59419 |
显示于类别: | Thesis |