标题: 利用电子束微影系统制作分怖回馈半导体雷射的二阶光栅
2nd Order DFB Laser Grating Fabrication by E-Beam Lithography
作者: 涂结盛
Ja-Son Tu
辛伟;高曜煌
Wei Hsin ; Y.H. Kao
电信工程研究所
关键字: 二阶光栅;电子束微影;半导体雷射;DFB,Grating,E-Beam Lithography,Leica EBL-300,
公开日期: 1994
摘要: 我们利用了电子束微影系统来制作我们要的二阶光栅.在这制作过程中,我
们利用了两种阻液, 一个为正光阻ZEP520, 一个为负光阻 SAL601 ER-7在
这制作过程中, 会因为我们所选的阻液之感光度的不同以及电子本身的一
些特性和碎片晶片对焦的问题, 导至我们最初实验的结果不甚理想 ,我们
将提出一些改进的方法 .最后我们将把成功的二阶光栅的各个参数及电子
显微镜所拍的二阶光栅的图型列出来, 以做为将来制作一阶光栅及圆形光
栅的一个参考的依据 .
We fabricate 2nd order grating of DFB laser by E-beam
lithograp- hy . We choose two kinds of resist , one is positive
resist ZEP- 520 , another is negative resist SAl 601 ER-7 . In
our fabricay- ion process will be strongly affected by electron
scattering and focusing of the e-beam . We will offer some
improvement methods. Finally,we show our successful grating SEM
picture and thier pa- rameters . It will be served as a guide
line for developing the 1st order grating or circular grating
in the future .
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT830436061
http://hdl.handle.net/11536/59419
显示于类别:Thesis