完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 施佳宏 | en_US |
| dc.contributor.author | Chia-Hung Shih | en_US |
| dc.contributor.author | 曲新生 | en_US |
| dc.contributor.author | Hsin-Sen Chu | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:15:59Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-12T02:15:59Z | - |
| dc.date.issued | 1995 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT840489040 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/60956 | - |
| dc.description.abstract | 輻射偵測器中超導薄膜/基材間的邊界熱阻對系統的散熱及相應之偵測反 應度有很大的影響。處理邊界熱阻有三種模式,包括聲異理論模式 (AMM) 、 散異理論模式(DMM)、 以及介面層模式(ILM)。本研究的目的在探討三 種不同邊界熱阻對一維Y-B-C-O薄膜/MgO基材的溫度分佈及所輸出之電壓 訊號反應度的影響﹔此外,在提高系統偵測靈敏度的前提下我們也對各種 可能影響系統熱傳的參數作更深入的分析。本文假設Y-B-C-O超導薄膜厚 度為40nm,MgO基材厚度為1mm。研究結果 現此三種邊界熱阻中,ILM模式 所預測之邊界熱阻會明顯地高於AMM模式 值,而DMM模式所求得的結果則 介於其它兩者之間。在邊界熱阻的阻滯U,輻射偵測器受入射脈衝週期的 影響極大,脈衝週期愈短,所求得之電僩U強﹔當入射總能量固定,入射 能量的形式隨時間的釋放愈集中、薄膜鼣z深度愈接近薄膜厚度、以及基 材厚度愈厚,所能達到之薄膜最高平均贖袚U高。在入射脈衝週期極短的 情況下,高薄膜熱傳導率對提升偵測反釩蛈野翮悸獐v響﹔而入射脈衝週 期相對地較長時,薄膜熱傳導率增大則ㄖQ於能量在薄膜中的累積。 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.subject | 邊界熱阻;輻射偵測器;超導薄膜;電壓響應 | zh_TW |
| dc.subject | Thermal Boundary Resistance ;Bolometer;Superconducting Film; Voltage Response | en_US |
| dc.title | 邊界熱阻對輻射偵測器反應度的分析 | zh_TW |
| dc.title | Analysis for the Influence of Thermal Boundary Resistance on the Response of Bolobeters | en_US |
| dc.type | Thesis | en_US |
| dc.contributor.department | 機械工程學系 | zh_TW |
| 顯示於類別: | 畢業論文 | |

