完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 林國偉 | en_US |
dc.contributor.author | Lin, Guo-Wei | en_US |
dc.contributor.author | 王念夏 | en_US |
dc.contributor.author | Wang, Nian-Xia | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:16:31Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:16:31Z | - |
dc.date.issued | 1995 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT844500006 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/61301 | - |
dc.description.abstract | 本研究是利用雷射光解–雷射誘發螢光法(Laser Photolysis/Laser-induce Fluorescence) 測量在大氣化學中相當重要的NH2 自由基與臭氧(O3)之反應速率常數 。先以波長193nm 的雷射光解氨(Ammonia) 使其產生NH2 自由基,在反應進行的時間 內在以另一雷射光激發NH2 自由基使其放出螢光。再以螢光強決定NH2 濃度變化。 NH2+O3→Product(1) 實驗溫度範圍從223K到423K,室溫下k1=(3.98±0.34)×10-13cm-3molecule-1s-1 , 其反應速率常數沒有明顯之壓力效應,並且隨溫度上升反應速率有增加的趨勢。k1在 223K到423K之阿瑞尼士表示為: k1=(5.3±0.4)×10-12exp((-760±20)/T)cm-3molecule-1s-1 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 應用化學 | zh_TW |
dc.subject | 化學 | zh_TW |
dc.subject | 雷射光解 | zh_TW |
dc.subject | 雷射誘發螢光法 | zh_TW |
dc.subject | 雷射光解氨 | zh_TW |
dc.subject | APPLIED-CHEMISTRY | en_US |
dc.subject | CHEMISTRY | en_US |
dc.title | 自由基NH2與臭氧之反應動力學研究 | zh_TW |
dc.title | Kinetics of the Reaction of NH2 with O3 | en_US |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 應用化學系碩博士班 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |