化學氣相沈積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬化上應用之研究

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	蔡明興	en_US
dc.contributor.author	孫喜眾, 李建平	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:18:22Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:18:22Z	-
dc.date.issued	1996	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT856430115	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/62550	-
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	化學氣相沈積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬化上應用之研究	zh_TW
dc.title	Chemical vapor deposition of diffusion barriers and aluminum for ULSI metallization	en_US
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	電子研究所	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文