以低壓有機金屬化學氣相磊晶法研究矽脈衝摻雜磷化銦鎵及其元件應用

標題:	以低壓有機金屬化學氣相磊晶法研究矽脈衝摻雜磷化銦鎵及其元件應用 Growth and characterization of Si delata-doped GaInP by LP-MOCVD and its device application
作者:	王見仁馮明憲, 張俊彥電子研究所
公開日期:	1996
URI:	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT856430116 http://hdl.handle.net/11536/62551
顯示於類別：	畢業論文