完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 郁道琄 | en_US |
| dc.contributor.author | 李正中 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:19:45Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-12T02:19:45Z | - |
| dc.date.issued | 1997 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT863614001 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/63614 | - |
| dc.description.abstract | 本論文是利用全反射受挫(Attenuated Total Reflection)的技術,量測Kretschmann 組態下角度與反射率的關係(稱為ATR曲線),配合光學導納(Optical Admittance)的原理及簡形優化(Simplex Optimization)的方法,求出薄膜的光學常數--折射率n、消光係數k、以及厚度d。本論文除了優化單一層金屬膜的光學常數之外,還在金屬膜上加附其他膜層,對加附膜層的光學常數進行優化。 本論文單層膜系統的金屬膜為銀和金,兩層膜系統的加附膜層有MgF2、□-(N-pyrrolyl) Nonanethiol、SC-lP。最後並對於優化出來的光學常數,做誤差的討論。 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.subject | 全反射受挫 | zh_TW |
| dc.subject | 光學常數 | zh_TW |
| dc.title | 利用全反射受挫方法量測薄膜之光學常數 | zh_TW |
| dc.type | Thesis | en_US |
| dc.contributor.department | 光電工程學系 | zh_TW |
| 顯示於類別: | 畢業論文 | |

