統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| 利用CVD TEOS 在二矽烷複晶矽和堆疊結構複晶矽薄膜上沈積氧化層之特性分析 | 151 |
本月總瀏覽
檔案下載
| 檢視 |
|---|
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 123 |
| 美國 | 13 |
| 台灣 | 11 |
| 英國 | 1 |
| 波蘭 | 1 |
| 新加坡 | 1 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 91 |
| Shanghai | 26 |
| Taipei | 7 |
| Beijing | 5 |
| Menlo Park | 5 |
| Kensington | 4 |
| Edmond | 3 |
| Clevedon | 1 |
| Hsinchu | 1 |
| Santa Clara | 1 |
| 檢視 | |
|---|---|
| 利用CVD TEOS 在二矽烷複晶矽和堆疊結構複晶矽薄膜上沈積氧化層之特性分析 | 151 |
| 檢視 |
|---|
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 123 |
| 美國 | 13 |
| 台灣 | 11 |
| 英國 | 1 |
| 波蘭 | 1 |
| 新加坡 | 1 |
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 91 |
| Shanghai | 26 |
| Taipei | 7 |
| Beijing | 5 |
| Menlo Park | 5 |
| Kensington | 4 |
| Edmond | 3 |
| Clevedon | 1 |
| Hsinchu | 1 |
| Santa Clara | 1 |