氣化氫氟酸在奈米金氧半電晶體之應用及其設備之開發(III)

標題:	氣化氫氟酸在奈米金氧半電晶體之應用及其設備之開發(III) Processes and System Development of HF-Vapor for Nano MOSFETs' Application(III)
作者:	趙天生 CHAO TIEN-SHENG 國立交通大學電子物理學系(所)
公開日期:	2007
官方說明文件#:	NSC96-2221-E009-189
URI:	http://hdl.handle.net/11536/88580 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1471819&docId=264231
顯示於類別：	研究計畫