完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 崔秉鉞 | en_US |
dc.contributor.author | Tsui Bing-Yue | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-13T10:30:01Z | - |
dc.date.available | 2014-12-13T10:30:01Z | - |
dc.date.issued | 2006 | en_US |
dc.identifier.govdoc | NSC95-2221-E009-360 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/89878 | - |
dc.identifier.uri | https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1309827&docId=242073 | en_US |
dc.description.abstract | 軟性電子(flexible electronics)是可能具有產業應用機會的新領域。由於使用的基板 是可撓性的,通常不耐高溫,電子電路製作必須採用低溫製程。由於奈米碳管(CNT) 具有優異的電、熱、機械、化學性質,且CNT 電晶體(CNTFET)的製程包括化學摻雜、 閘極介電質沈積、閘電及沈積、源極/汲極金屬接觸等等都可以是低溫製程,搭配碳管本 身極佳的彈性與可撓性,可望應用在各式基板。本計畫預計以奈米碳管網路薄膜電晶體 (CNT NWTFT) 為研究對象,希望在一年內,建立NWTFT 的製作技術,符合定位且低 溫製程的要求,並利用低接觸阻抗金屬、高介電常數閘極介電質提高元件性能。 本計畫將採取兩種奈米碳管網路的形成方式:旋轉塗佈法以及定位成長法。製作過 程中,將用SEM 觀測碳管密度,用AFM 掃瞄分析碳管直徑分佈,用拉曼散射分析碳管 旋度,用TEM 做更精細的碳管結構觀察。碳管網路的電阻率、NWTFT 的導通電流、 載子遷移率、臨界電壓、次臨界斜率、漏電流等,都是必須測量的參數。碳管密度、碳 管網路製作方式、閘極與源極/汲極重疊程度、金屬種類、閘極介電質種類等製程參數對 前述元件參數的影響也是研究的重點。對於特性較佳的元件,會進一步做低溫測量,探 討載子傳導機制。 | zh_TW |
dc.description.sponsorship | 行政院國家科學委員會 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.title | 奈米碳管薄膜電晶體研究 | zh_TW |
dc.title | A Study on the Carbon Nanotube Thin Film Transistors | en_US |
dc.type | Plan | en_US |
dc.contributor.department | 交通大學電子工程系 | zh_TW |
顯示於類別: | 研究計畫 |