低溫電漿蝕刻製程與電漿診斷技術之開發研究---子計畫三：蝕刻製程橢圓儀線上即時量測系統之研製(II)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	趙于飛	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:32:37Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:32:37Z	-
dc.date.issued	2004	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC93-2623-7009-001-NU	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/91656	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=902497&docId=171566	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	低溫電漿蝕刻製程與電漿診斷技術之開發研究---子計畫三：蝕刻製程橢圓儀線上即時量測系統之研製(II)	zh_TW
dc.title	Ellipsometry and Its in Situ/Real Time Monitoring on Plasma Etching Process(II)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學光電工程研究所	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫