標題: 新型低溫複晶矽(矽鍺)電晶體及奈米碳管場發射元件---子計畫II:低溫快速金屬誘發之結晶層製作薄膜電晶體(I)
Integration of Thin Film Transistors on Rapid, and Low Temperature Crystallized Active Layers via Metal Inducing Mechanisms (I)
作者: 馮明憲
國立交通大學材料科學工程研究所
公開日期: 2003
官方說明文件#: NSC92-2215-E009-067
URI: http://hdl.handle.net/11536/92561
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=873563&docId=167363
顯示於類別:研究計畫


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