標題: | 以電子迴旋共振化學氣相沈積技術成長超薄閘極絕緣膜及可靠性之研究(III) Fabrication and Reliability of Ultra-Thin Gate Dielectrics by ECR-CVD Technique (III) |
作者: | 張國明 CHANG KOW-MING 交通大學電子工程系 |
公開日期: | 2002 |
官方說明文件#: | NSC91-2215-E009-014 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/92719 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=736708&docId=139404 |
顯示於類別: | 研究計畫 |