| 標題: | 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---總計畫(Ⅱ) Research and Development of CVD Process Equipment for a 12-inch Single Silicon Wafer and Growth of BST Dielectric Thin Film (II) |
| 作者: | 林清發 LIN TSING-FA 國立交通大學機械工程研究所 |
| 關鍵字: | 矽晶圓;介電薄膜;半導體工業;化學氣相沉積製程設備;Silicon wafer;Dielectric thin film;Semiconductor industry;Chemical vapor deposition process equipment |
| 公開日期: | 2001 |
| 官方說明文件#: | NSC90-2212-E009-075 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/93515 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=662726&docId=125583 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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