8吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫I：LPCVD製程設備之加熱及進氣系統設計、流場模擬與系統整合及建立(III)

標題:	8吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫I：LPCVD製程設備之加熱及進氣系統設計、流場模擬與系統整合及建立(III) Heating and Gas Feeding System Design, Flow Simulation, Design and Establishment of a LPCVD Process Equipment (III)
作者:	林清發 LIN TSING-FA 交通大學機械工程系
關鍵字:	進氣系統;晶圓;熱傳導;催化劑;熱傳遞;反應器;Gas feeding system;Wafer;Thermal conductivity;Precursor;Heat transfer;Reactor
公開日期:	1999
官方說明文件#:	NSC88-2218-E009-002
URI:	http://hdl.handle.net/11536/94315 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=419317&docId=74448
顯示於類別：	研究計畫

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