電漿製程天線效應對超薄閘氧化層電晶體特性影響之研究
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天線效應 , 電漿製程 , 超薄閘 , 氧化層 , 充電損害 , 深次微米 , 光阻 , 灰化 , Antenna effect , Plasma process , Ultrathin gate , Oxided layer , Charging damage , Deep submicrometer , Photo resistance , Ashing