薄膜超導元件的研製與特性探討---子計畫I：雷射MBE濺鍍超導多層薄膜之分析及約瑟夫遜主動元件之研究

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	郭義雄	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:38:28Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:38:28Z	-
dc.date.issued	1997	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC86-2112-M009-021	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/95412	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=274741&docId=49192	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	薄膜	zh_TW
dc.subject	雷射	zh_TW
dc.subject	超導體	zh_TW
dc.subject	Thin film	en_US
dc.subject	Laser	en_US
dc.subject	Superconductor	en_US
dc.title	薄膜超導元件的研製與特性探討---子計畫I：雷射MBE濺鍍超導多層薄膜之分析及約瑟夫遜主動元件之研究	zh_TW
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學電子物理系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫