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| 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---(1)氟氯烷取代物研究---與OH之反應速率(2)硫化物氧化研究---CH/sub 3/S與O/sub 3/之反應速率 | 112 |
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| 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---(1)氟氯烷取代物研究---與OH之反應速率(2)硫化物氧化研究---CH/sub 3/S與O/sub 3/之反應速率 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 |
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