以石英或玻璃為基片之二元微透鏡的設計與製作

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DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	陸懋宏	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:38:28Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:38:28Z	-
dc.date.issued	1997	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC86-2215-E009-015	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/95419	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=271946&docId=48510	en_US
dc.description.abstract	本計劃將利用純量繞射理論來設計反射式二元光學繞射元件，並利用製造穿透式二元光學繞射元件的半導體製程技術活性離子蝕刻 ( reactive ion etching ; 簡稱RIE ) 技術來製造反射式二元光學繞射元件。計算出固定孔徑下，入、反射角度所對應的最小環帶寬度，以及分析製程誤差所引入的繞射效率變化。建立量測反射式二元光學繞射元件之光強分布及繞射效率的量測系統，並對製造出的八階反射式二元光學繞射元件進行效能的量測，並將結果與理論計算值相比對。	zh_TW
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	菲涅耳透鏡	zh_TW
dc.subject	二元微透鏡	zh_TW
dc.subject	微光學器件	zh_TW
dc.subject	溼蝕刻	zh_TW
dc.subject	活性離子蝕刻	zh_TW
dc.subject	Fresnel len	en_US
dc.subject	Binary microlen	en_US
dc.subject	Microoptical element	en_US
dc.subject	Wet etching	en_US
dc.subject	Reactive ion etching	en_US
dc.title	以石英或玻璃為基片之二元微透鏡的設計與製作	zh_TW
dc.title	Designs and Fabrications of Binary Microlens with Quartz or Glass Substrate	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學光電工程研究所	zh_TW
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