完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 陸懋宏 | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-13T10:38:28Z | - |
dc.date.available | 2014-12-13T10:38:28Z | - |
dc.date.issued | 1997 | en_US |
dc.identifier.govdoc | NSC86-2215-E009-015 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/95419 | - |
dc.identifier.uri | https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=271946&docId=48510 | en_US |
dc.description.abstract | 本計劃將利用純量繞射理論來設計反射式二元光學繞射元件,並利用製造穿透式二元光學繞射元件的半導體製程技術 活性離子蝕刻 ( reactive ion etching ; 簡稱RIE ) 技術來製造反射式二元光學繞射元件。計算出固定孔徑下,入、反射角度所對應的最小環帶寬度,以及分析製程誤差所引入的繞射效率變化。建立量測反射式二元光學繞射元件之光強分布及繞射效率的量測系統,並對製造出的八階反射式二元光學繞射元件進行效能的量測,並將結果與理論計算值相比對。 | zh_TW |
dc.description.sponsorship | 行政院國家科學委員會 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 菲涅耳透鏡 | zh_TW |
dc.subject | 二元微透鏡 | zh_TW |
dc.subject | 微光學器件 | zh_TW |
dc.subject | 溼蝕刻 | zh_TW |
dc.subject | 活性離子蝕刻 | zh_TW |
dc.subject | Fresnel len | en_US |
dc.subject | Binary microlen | en_US |
dc.subject | Microoptical element | en_US |
dc.subject | Wet etching | en_US |
dc.subject | Reactive ion etching | en_US |
dc.title | 以石英或玻璃為基片之二元微透鏡的設計與製作 | zh_TW |
dc.title | Designs and Fabrications of Binary Microlens with Quartz or Glass Substrate | en_US |
dc.type | Plan | en_US |
dc.contributor.department | 交通大學光電工程研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 研究計畫 |