分子化合物合成無機材料之新方法(I)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	裘性天	en_US
dc.contributor.author	CHIU HSIN-TIEN	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:38:37Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:38:37Z	-
dc.date.issued	1997	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC86-2113-M009-003	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/95546	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=270240&docId=48083	en_US
dc.description.abstract	本計畫將繼續本研究室之研究, 嘗試以分子化合物為前驅物,合成無機材料. 重點有以下列四點:一. 合成及鑑定新化合物, 以可能成做無機材料前驅物者為目標.如含第五及六族過渡金屬-氮雙鍵之有機亞�類錯合物及金屬-氮參鍵之氮化合物,多矽有機金屬化合物等等.二. 從新合成之錯合物中選擇較合適者以為化學氣相沉積反應之前驅物,以成長薄膜. 如金屬氮化物, 氧化物, 碳化物薄膜等等.三. 嘗試以分子化合物為前驅物, 合成無機粉末材料.四. 化學氣相沉積中所產生的氣體產物之分析,以進一步瞭解前驅物分解之反應途徑.	zh_TW
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	過渡金屬有機亞胺類化合物	zh_TW
dc.subject	過渡金屬氮化合物	zh_TW
dc.subject	聚矽有機金屬	zh_TW
dc.subject	化學氣相沈積	zh_TW
dc.subject	金屬氮化物薄膜	zh_TW
dc.subject	金屬氮化物粉末	zh_TW
dc.subject	金屬氧化物粉末	zh_TW
dc.subject	碳化矽薄膜	zh_TW
dc.subject	前驅物	zh_TW
dc.subject	分解	zh_TW
dc.subject	Transition metal organoimido complex	en_US
dc.subject	Transition metal nitrido complex	en_US
dc.subject	Organopolysilane	en_US
dc.subject	Chemical vapor deposition	en_US
dc.subject	Metal nitride thin film	en_US
dc.subject	Metal nitride powder	en_US
dc.subject	Metal oxide powder	en_US
dc.subject	Silicon carbide thin film	en_US
dc.subject	Precursor	en_US
dc.subject	Decomposition	en_US
dc.title	分子化合物合成無機材料之新方法(I)	zh_TW
dc.title	New Molecular Routes to Inorganic Materials (I)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學應用化學系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫