0.25-0.35微米圖案轉移用石英蝕刻調細式相移光罩之最佳化模擬及其研製

完整後設資料紀錄

DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	龍文安	en_US
dc.contributor.author	Loong Wen-an	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:39:19Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:39:19Z	-
dc.date.issued	1995	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC84-2215-E009-051	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/96348	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=172228&docId=29261	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	0.25-0.35微米圖案轉移用石英蝕刻調細式相移光罩之最佳化模擬及其研製	zh_TW
dc.title	Optimization by Simulation and Its Fabrication of a Quartz-Etch Attenuate Phase Shifting Mask for 0.25-0.35.mu.m Pattern Transfer	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學應用化學研究所	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫