利用加磁場ECR電漿CVD法合成鑽石及類鑽石薄膜之研究(III)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	陳家富	en_US
dc.contributor.author	CHEN CHIA-FU	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:40:48Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:40:48Z	-
dc.date.issued	1993	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC82-0416-E009-250	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/97831	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=63089&docId=9286	en_US
dc.description.abstract	鑽石,是宇宙間所有物質中硬度(約Hv10,000kg/mm/ sup 2/)最高者,同時具有超熱傳導性質(約24Watt/□- cm:約銅的5倍)和絕緣性(約10/sup 13/ .sim. 10/sup 16/ .OMEGA. cm/15□)及光學透光度(紫外線,可視線及紅外線範圍)均呈透明.除此,鑽石還具有高耐藥品性 ,低摩擦係數及高音波傳播速度.若在鑽石中浸加不純物P或B等還能使其半導體化(高溫半導體)等, 擁有其他材料所沒有的許多特性.在電子工業與國防工業用途上深具價值.是一項極有前瞻性及被期待的重要新材料之一.近年,有幾種不同的合成高品質鑽石薄膜技術被開發及應用.例如,熱燈絲CVD(熱電子CVD)法,高周波電漿CVD法,微波電漿CVD法,DC熱電漿CVD法,DC電漿噴射CVD法等,這些方法實現了在低溫,低壓(10 200Torr )下合成鑽石的夢.但這些方法因受反應與放電面積所限,而無法獲得均一性的大面積薄膜.因此利用低壓合成法則能解決這些問題.因為利用降低壓力能使電子的平均自由程增長,而增加電漿(離子)的密度.換言之,利用磁控產生大面積的高能量ECR(ElectronCyclotron Resonance)電漿,能達到合成鑽石薄膜低溫化及大面積化效果.	zh_TW
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	鑽石	zh_TW
dc.subject	類鑽石	zh_TW
dc.subject	薄膜	zh_TW
dc.subject	ECR電漿CVD	zh_TW
dc.subject	氣相合成法	zh_TW
dc.subject	Diamond	en_US
dc.subject	Diamond-like	en_US
dc.subject	Thin film	en_US
dc.subject	ECR plasma CVD	en_US
dc.subject	Vapor deposition	en_US
dc.title	利用加磁場ECR電漿CVD法合成鑽石及類鑽石薄膜之研究(III)	zh_TW
dc.title	Synthesis of Daimond and Daimond Like Film Using sma Chemical Vapor Deposition (III)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學材料科學工程研究所	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫