具磁性材料薄膜之集積式電感之研製及其在積體電路之應用

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DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	吳重雨	en_US
dc.contributor.author	CHUNG-YUWU	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:40:52Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:40:52Z	-
dc.date.issued	1993	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC82-0404-E009-199	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/97910	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=62361&docId=9172	en_US
dc.description.abstract	基於集積式薄膜電感製造技術仍未與積體電路製造技術相容合,而其應用潛力卻十分重大,本計畫擬分三年對集積式薄膜電感作一深入而完整之研究,自磁性材料薄膜濺鍍系統之組合,薄膜之濺鍍技術,蝕刻技術,電感計算理論,電感圖案,金屬蝕刻技術,電感設計最佳化,乃至電感研製技術之加入互補式金氧半技術,電感之尺寸縮小,以及其應用電路設計發展,均將予以研究,以獲致成果.	zh_TW
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	集積式薄膜電感	zh_TW
dc.subject	磁性材料	zh_TW
dc.subject	濺鍍	zh_TW
dc.subject	蝕刻技術	zh_TW
dc.subject	Integrated thin-film inductor	en_US
dc.subject	Magnetic material	en_US
dc.subject	Sputtering	en_US
dc.subject	Etchingtechnique	en_US
dc.title	具磁性材料薄膜之集積式電感之研製及其在積體電路之應用	zh_TW
dc.title	The Fabrication of Integrated Inductors with Ferrite Film and Their Application in Integrated Circuit	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學電子物理研究所	zh_TW
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