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dc.contributor.author吳重雨en_US
dc.contributor.authorCHUNG-YUWUen_US
dc.date.accessioned2014-12-13T10:40:52Z-
dc.date.available2014-12-13T10:40:52Z-
dc.date.issued1993en_US
dc.identifier.govdocNSC82-0404-E009-199zh_TW
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/97910-
dc.identifier.urihttps://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=62361&docId=9172en_US
dc.description.abstract基於集積式薄膜電感製造技術仍未與積體電路 製造技術相容合,而其應用潛力卻十分重大,本計 畫擬分三年對集積式薄膜電感作一深入而完整之 研究,自磁性材料薄膜濺鍍系統之組合,薄膜之濺 鍍技術,蝕刻技術,電感計算理論,電感圖案,金屬 蝕刻技術,電感設計最佳化,乃至電感研製技術之 加入互補式金氧半技術,電感之尺寸縮小,以及其 應用電路設計發展,均將予以研究,以獲致成果.zh_TW
dc.description.sponsorship行政院國家科學委員會zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject集積式薄膜電感zh_TW
dc.subject磁性材料zh_TW
dc.subject濺鍍zh_TW
dc.subject蝕刻技術zh_TW
dc.subjectIntegrated thin-film inductoren_US
dc.subjectMagnetic materialen_US
dc.subjectSputteringen_US
dc.subjectEtchingtechniqueen_US
dc.title具磁性材料薄膜之集積式電感之研製及其在積體電路之應用zh_TW
dc.titleThe Fabrication of Integrated Inductors with Ferrite Film and Their Application in Integrated Circuiten_US
dc.typePlanen_US
dc.contributor.department交通大學電子物理研究所zh_TW
顯示於類別:研究計畫