脈衝雷射蒸鍍高溫超導薄膜之最佳參數之研究(II)

標題:	脈衝雷射蒸鍍高溫超導薄膜之最佳參數之研究(II) Study the Films Optimum Parameters for Pulsed Laser Deposition of High Tc Superconducting Thin Film(II)
作者:	吳光雄 WU KAUNG-HSIUNG 交通大學電子物理研究所
關鍵字:	雷射蒸鍍;釔系超導薄膜;砷化鎵基板;三層鍍膜;Pulsed laser deposition;YBCO Thin films;GaAs Substrate;Trilayerstructure
公開日期:	1993
摘要:	本計畫係第一年計畫之延續,除了繼續研究蒸鍍YBCO薄膜之條件,以便得到高品質之薄膜外,並將進一步改善自製雷射蒸鍍系統之控制程序,以便提高其可靠性和重複性.所鍍之薄膜將作各種超導特性量測,除作為改善薄膜之重要依據外,並可了解YBCO薄膜之超導物理行為.
官方說明文件#:	NSC82-0212-M009-028
URI:	http://hdl.handle.net/11536/97945 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=4405&docId=403
顯示於類別：	研究計畫