考慮能產生友善三重曝光樣形以及平衡光罩密度的非點格式細部繞線器

標題:	考慮能產生友善三重曝光樣形以及平衡光罩密度的非點格式細部繞線器 Triple-Pattern-Lithography-Friendly and Mask-Density-Balancing-Aware Gridless Detailed Routing
作者:	李毅郎 Li Yih-Lang 國立交通大學資訊工程學系（所）
公開日期:	2014
官方說明文件#:	MOST103-2221-E009-223
URI:	http://hdl.handle.net/11536/99994 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=8350958&docId=445293
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