鐵電場效電晶體製造方法

Abstract

本案係指一種鐵電場效電晶體製造方法，其係應用於金屬/鐵電薄膜/絕緣層/半導體(MFIS)結構的閘極電容元件製作上，該方法乃藉由在該絕緣層上沈積一鉍系鐵電薄膜，並經由一高溫熱處理後，再鍍上一上電極層於該鉍系鐵電薄膜上，俾得致該鐵電場效電晶體結構。