極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件可靠度研究(III)

Files

992120M009004.PDF (2.56 MB)

Date

Authors

HUANG YANG-TUNG

Keywords

次世代微影技術 , 極紫外光微影技術(EUVL) , 半導體製程 , 同步輻射光源 , EUVL檢測技術 , Next generation lithography (NGL) , Extreme UV lithography (EUVL) , Semiconductor , Synchrotron radiation , EUV metrology technology

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=2147801&docId=345725
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/100667

Collections

研究計畫;;Research Plans