12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫Ⅰ：12吋矽晶圓CVD製程設備的加熱及成長BST薄膜之進氣系統設計與反應爐系統整合(II)

Date

Authors

Keywords

矽晶圓 , 化學氣相沉積法 , 薄膜成長 , 進氣系統 , Silicon wafer , Chemical vapor deposition (CVD) , Thin film growth , Gas feeding system

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=662734&docId=125585
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/93517

Collections

研究計畫;;Research Plans