薄絕緣層複晶矽及相關元件之研究(V)

dc.contributor.author	李崇仁	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學電子工程研究所	zh_TW
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:40:22Z
dc.date.available	2014-12-13T10:40:22Z
dc.date.issued	1994	en_US
dc.description.abstract	本計畫係一長期計畫"薄絕緣層□複晶矽及相關元件之研究(□)□(□)□(□) "(□)之延續計畫.全程計畫之目標,為對薄絕緣層如SiO2, SiNxOy及複晶矽薄膜等,其應用於元件上之一些製備方式□物理性質□元件應用□測量方法等作一研究.	zh_TW
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.identifier.govdoc	NSC83-0404-E009-017	zh_TW
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=120636&docId=20114	en_US
dc.identifier.uri	https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/97412
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	薄絕緣層	zh_TW
dc.subject	複晶矽	zh_TW
dc.subject	橢圓儀	zh_TW
dc.subject	Thin dielectric	en_US
dc.subject	Polysilicon	en_US
dc.subject	Ellipsometry	en_US
dc.title	薄絕緣層複晶矽及相關元件之研究(V)	zh_TW
dc.title	Study on Thin Dielectrics, Poly Silicon and Related Devices(V)	en_US
dc.type	Plan	en_US

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