以雷射技術研究大氣化學之重要分子---(1)氟氯烷取代物研究---與OH之反應速率(2)硫化物氧化研究---CH/sub 3/S與O/sub 3/之反應速率

Date

Authors

WANG NIANN SHIAH

Keywords

氟氯烷取代物 , 反應速率 , 甲硫基 , 臭氧 , Freon substitute , Reaction rate , Methyl sulfur , Ozone

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=274248&docId=49072
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/95415

Collections

研究計畫;;Research Plans