以雷射技術研究大氣化學之重要分子---(1)氟氯烷取代物研究---與OH之反應速率(2)硫化物氧化研究---CH/sub 3/S與O/sub 3/之反應速率

dc.contributor.author	王念夏	en_US
dc.contributor.author	WANG NIANN SHIAH	en_US
dc.contributor.department	交通大學應用化學系	zh_TW
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:38:28Z
dc.date.available	2014-12-13T10:38:28Z
dc.date.issued	1997	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.identifier.govdoc	NSC86-2113-M009-013	zh_TW
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=274248&docId=49072	en_US
dc.identifier.uri	https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/95415
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	氟氯烷取代物	zh_TW
dc.subject	反應速率	zh_TW
dc.subject	甲硫基	zh_TW
dc.subject	臭氧	zh_TW
dc.subject	Freon substitute	en_US
dc.subject	Reaction rate	en_US
dc.subject	Methyl sulfur	en_US
dc.subject	Ozone	en_US
dc.title	以雷射技術研究大氣化學之重要分子---(1)氟氯烷取代物研究---與OH之反應速率(2)硫化物氧化研究---CH/sub 3/S與O/sub 3/之反應速率	zh_TW
dc.title	(1) Freon Substitutes---Reaction Rates with OH (2)Oxidation of Sulfur Compounds---Reaction Rate of CH/sub 3/S+O/sub 3/	en_US
dc.type	Plan	en_US

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