8吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫II：LPCVD製程設備中加熱系統之熱輻射量測及晶圓熱應力分析(III)
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低壓化學氣相沈積法 , 晶圓 , 熱應力 , 快速熱處理 , 熱輻射 , LPCVD , Wafer , Thermal stress , Rapid thermal process (RTP) , Thermal radiation