瀏覽 的方式： 關鍵字 Hydroxyl radical
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 1999 | 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氟氯烷取代物研究---子計畫II：與OH及Cl之反應速率 | 王念夏; WANG NIANN SHIAH; 交通大學應用化學系 |
| 2007 | 利用三辛基氧化膦包覆之二氧化鈦奈米晶粒光降解內分泌干擾物質研究 | 羅品涵; Pin-Han Lo; 張淑閔; Sue-Ming Chang; 環境工程系所 |
| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 1999 | 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氟氯烷取代物研究---子計畫II：與OH及Cl之反應速率 | 王念夏; WANG NIANN SHIAH; 交通大學應用化學系 |
| 2007 | 利用三辛基氧化膦包覆之二氧化鈦奈米晶粒光降解內分泌干擾物質研究 | 羅品涵; Pin-Han Lo; 張淑閔; Sue-Ming Chang; 環境工程系所 |