標題: 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氟氯烷取代物研究---子計畫II:與OH及Cl之反應速率
Freon Substitutes---Reaction Rates with OH and Cl
作者: 王念夏
WANG NIANN SHIAH
交通大學應用化學系
關鍵字: 氟氯烷取代物;反應速率;氯原子;羥自由基;Freon substitute;Reaction rate;Chlorine atom;Hydroxyl radical
公開日期: 1999
官方說明文件#: NSC88-2113-M009-007-L1
URI: http://hdl.handle.net/11536/94514
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=416981&docId=73900
顯示於類別:研究計畫


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