標題: | 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氟氯烷取代物研究---子計畫II:與OH及Cl之反應速率 Freon Substitutes---Reaction Rates with OH and Cl |
作者: | 王念夏 WANG NIANN SHIAH 交通大學應用化學系 |
關鍵字: | 氟氯烷取代物;反應速率;氯原子;羥自由基;Freon substitute;Reaction rate;Chlorine atom;Hydroxyl radical |
公開日期: | 1999 |
官方說明文件#: | NSC88-2113-M009-007-L1 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/94514 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=416981&docId=73900 |
顯示於類別: | 研究計畫 |