以雷射技術研究大氣化學之重要分子---子計畫三：(I)氟氮烷取代物研究---與Cl之應速率(2)硫化物氧化研究---CH3S與NO2或O2之反應速率(II)

Date

Authors

WANG NIANN SHIAH

Keywords

氟氯烷取代物 , 硫化合物 , 甲硫基 , 反應速率 , 光化學 , Freon substitute , Sulfur compound , Methyl sulfur , Reaction speed , Photochemistry

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=342636&docId=61228
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/95094

Collections

研究計畫;;Research Plans