| 標題: | 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---子計畫三：(I)氟氮烷取代物研究---與Cl之應速率(2)硫化物氧化研究---CH3S與NO2或O2之反應速率(II) (1)Freon Substitutes-Reaction Rates with Cl (2)Oxidation of Sulfur Compounds-Reaction Rate of CH/sub 3/S with NO/sub 2/ or O/sub 2/ (II) |
| 作者: | 王念夏 WANG NIANN SHIAH 交通大學應用化學系 |
| 關鍵字: | 氟氯烷取代物;硫化合物;甲硫基;反應速率;光化學;Freon substitute;Sulfur compound;Methyl sulfur;Reaction speed;Photochemistry |
| 公開日期: | 1998 |
| 官方說明文件#: | NSC87-2113-M009-007-L1 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/95094 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=342636&docId=61228 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
