以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氟氯烷取代物研究---子計畫II：與OH及Cl之反應速率

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	王念夏	en_US
dc.contributor.author	WANG NIANN SHIAH	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:37:17Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:37:17Z	-
dc.date.issued	1999	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC88-2113-M009-007-L1	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/94514	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=416981&docId=73900	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	氟氯烷取代物	zh_TW
dc.subject	反應速率	zh_TW
dc.subject	氯原子	zh_TW
dc.subject	羥自由基	zh_TW
dc.subject	Freon substitute	en_US
dc.subject	Reaction rate	en_US
dc.subject	Chlorine atom	en_US
dc.subject	Hydroxyl radical	en_US
dc.title	以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氟氯烷取代物研究---子計畫II：與OH及Cl之反應速率	zh_TW
dc.title	Freon Substitutes---Reaction Rates with OH and Cl	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學應用化學系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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