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國立陽明交通大學機構典藏
瀏覽 的方式: 作者 Wang, SW
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顯示 1 到 20 筆資料,總共 25 筆
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標題
作者
1-一月-1997
Characteristics of selective chemical vapor deposition of tungsten on aluminum with a vapor phase precleaning technology
Chang, KM
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
Li, CH
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-十二月-1996
Comprehensive study of plasma pretreatment process for thin gate oxide (<10 nm) fabricated by electron cyclotron resonance plasma oxidation
Chang, KM
;
Li, CH
;
Fahn, FJ
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-七月-1996
Dry etching of polysilicon with high selectivity using a chlorine-based plasma in an ECR reactor
Chang, KM
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
Li, CH
;
Yang, JY
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-七月-1996
Dry etching of polysilicon with high selectivity using a chlorine-based plasma in an ECR reactor
Chang, KM
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
Li, CH
;
Yang, JY
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
12-五月-1997
Effect of adding Ar on the thermal stability of chemical vapor deposited fluorinated silicon oxide using an indirect fluorinating precursor
Chang, KM
;
Wang, SW
;
Li, CH
;
Yeh, TH
;
Yang, JY
;
奈米中心
;
Nano Facility Center
1-六月-1996
Effects of gas ratio on electrical properties of electron-cyclotron-resonance nitride films grown at room temperature
Chang, KM
;
Tsai, JY
;
Li, CH
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
Yang, JY
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-六月-1996
Effects of gas ratio on electrical properties of electron-cyclotron-resonance nitride films grown at room temperature
Chang, KM
;
Tsai, JY
;
Li, CH
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
Yang, JY
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-七月-2002
An efficient and stable ray tracing algorithm for parametric surfaces
Wang, SW
;
Shih, ZC
;
Chang, RC
;
資訊工程學系
;
Department of Computer Science
1-九月-2000
An improved rendering technique for ray tracing Bezier and B-spline surfaces
Wang, SW
;
Shih, ZC
;
Chang, RH
;
資訊工程學系
;
Department of Computer Science
1-一月-1997
The influence of precleaning process on the gate oxide film fabricated by electron cyclotron resonance plasma oxidation
Chang, KM
;
Li, CH
;
Fahn, FJ
;
Tsai, JY
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
Yang, JY
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-九月-1996
Influences of damage and contamination from reactive ion etching on selective tungsten deposition in a low-pressure chemical-vapor-deposition reactor
Chang, KM
;
Yeh, TH
;
Wang, SW
;
Li, CH
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
26-八月-1996
Influences of deposition temperature on thermal stability and moisture resistance of chemical vapor deposited fluorinated silicon oxide by using indirect fluorinating precursor
Chang, KM
;
Wang, SW
;
Wu, CJ
;
Yeh, TH
;
Li, CH
;
Yang, JY
;
電子工程學系及電子研究所
;
奈米中心
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
;
Nano Facility Center
26-八月-1996
Influences of deposition temperature on thermal stability and moisture resistance of chemical vapor deposited fluorinated silicon oxide by using indirect fluorinating precursor
Chang, KM
;
Wang, SW
;
Wu, CJ
;
Yeh, TH
;
Li, CH
;
Yang, JY
;
奈米中心
;
Nano Facility Center
1-五月-1997
Leakage performance and breakdown mechanism of silicon-rich oxide and fluorinated oxide prepared by electron cyclotron resonance chemical vapor deposition
Chang, KM
;
Wang, SW
;
Yeh, TH
;
Li, CH
;
Luo, JJ
;
奈米中心
;
Nano Facility Center
1-五月-1998
A new simple and reliable method to form a textured Si surface for the fabrication of a tunnel oxide film
Chang, KM
;
Li, CH
;
Sheih, BS
;
Yang, JY
;
Wang, SW
;
Yeh, TH
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-一月-1998
New techniques for simulation of ion implantation by numerical integration of Boltzmann transport equation
Wang, SW
;
Guo, SF
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-一月-1998
New techniques for simulation of ion implantation by numerical integration of Boltzmann transport equation
Wang, SW
;
Guo, SF
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-六月-2000
A novel pretreatment technology for organic low-dielectric material to suppress copper diffusion and improve ashing resistance
Chang, KM
;
Deng, IC
;
Tsai, YP
;
Wen, CY
;
Yeh, SJ
;
Wang, SW
;
Wang, JY
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-十月-2005
Novel single-poly EEPROM with damascene control-gate structure
Sung, HC
;
Lei, TF
;
Hsu, TH
;
Wang, SW
;
Kao, YC
;
Lin, YT
;
Wang, CS
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-七月-1998
Parallel simulation of ion implantation for multi-component targets using Boltzmann transport equation
Wang, SW
;
Guo, SF
;
電子工程學系及電子研究所
;
Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics