標題: 新穎反向式微影技術應用於CMOS 32奈米節點及其以下之光學鄰近修正術(OPC)與可製造性設計(DFM)
Inverse Lithography Solution for Optical Proximity Correction and Design for Manufacturing for CMOS 32nm Node and beyond
作者: 余沛慈
Yu Peichen
國立交通大學光電工程學系(所)
公開日期: 2010
官方說明文件#: NSC98-2221-E009-111-MY2
URI: http://hdl.handle.net/11536/100341
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=2006720&docId=328118
顯示於類別:研究計畫