標題: | 新穎反向式微影技術應用於CMOS 32奈米節點及其以下之光學鄰近修正術(OPC)與可製造性設計(DFM) Inverse Lithography Solution for Optical Proximity Correction and Design for Manufacturing for CMOS 32nm Node and beyond |
作者: | 余沛慈 Yu Peichen 國立交通大學光電工程學系(所) |
公開日期: | 2010 |
官方說明文件#: | NSC98-2221-E009-111-MY2 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/100341 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=2006720&docId=328118 |
顯示於類別: | 研究計畫 |