新穎反向式微影技術應用於CMOS 32奈米節點及其以下之光學鄰近修正術(OPC)與可製造性設計(DFM)

標題:	新穎反向式微影技術應用於CMOS 32奈米節點及其以下之光學鄰近修正術(OPC)與可製造性設計(DFM) Inverse Lithography Solution for Optical Proximity Correction and Design for Manufacturing for CMOS 32nm Node and beyond
作者:	余沛慈 Yu Peichen 國立交通大學光電工程學系（所）
公開日期:	2010
官方說明文件#:	NSC98-2221-E009-111-MY2
URI:	http://hdl.handle.net/11536/100341 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=2006720&docId=328118
顯示於類別：	研究計畫