金屬薄膜與矽晶以及絻緣層界面反應研究(II)

標題:	金屬薄膜與矽晶以及絻緣層界面反應研究(II) Interfacial Reactions of Metal Thin Films on Silicon and Dielectric Layers (II)
作者:	陳力俊 CHEN LIH-JUANN 交通大學電子工程系
關鍵字:	金屬薄膜;矽;介電層;Metal thin film;Silicon;Dielectric layer
公開日期:	2000
官方說明文件#:	NSC89-2215-E009-008
URI:	http://hdl.handle.net/11536/101215 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=542193&docId=99608
顯示於類別：	研究計畫

APA	陳., & CHEN L. (2000). 金屬薄膜與矽晶以及絻緣層界面反應研究(II). https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=542193&docId=99608.
Bibtex	@article{2000, title={金屬薄膜與矽晶以及絻緣層界面反應研究(II)}, author={陳力俊 and CHEN LIH-JUANN}, journal={https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=542193&docId=99608}, year={2000}, url={https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/101215}, }