標題: | 低維度硫族合金之電遷移與擴散行為研究 A Study of Electromigration and Diffusion Behaviors of Low-Dimensional Chalcogenides |
作者: | 謝宗雍 HSIEH TSUNG-EONG 國立交通大學材料科學與工程學系(所) |
公開日期: | 2014 |
官方說明文件#: | MOST103-2221-E009-057-MY2 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/101222 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=8357761&docId=447534 |
Appears in Collections: | Research Plans |