標題: 低維度硫族合金之電遷移與擴散行為研究
A Study of Electromigration and Diffusion Behaviors of Low-Dimensional Chalcogenides
作者: 謝宗雍
HSIEH TSUNG-EONG
國立交通大學材料科學與工程學系(所)
公開日期: 2015
官方說明文件#: MOST103-2221-E009-057-MY2
URI: http://hdl.handle.net/11536/130478
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11269234&docId=454691
顯示於類別:研究計畫