Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 陳智 | en_US |
dc.contributor.author | 杜經寧 | en_US |
dc.contributor.author | 蕭翔耀 | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:11:59Z | - |
dc.date.available | 2014-12-16T06:11:59Z | - |
dc.date.issued | 2013-02-16 | en_US |
dc.identifier.govdoc | H01L021/60 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/103314 | - |
dc.description.abstract | 本發明係有關於一種用於減緩介金屬化合物成長之方法,步驟包含:(i)製備一基板元件,包括在一基板上電鍍至少一金屬墊層,接著在該金屬墊層上電鍍至少一很薄的一薄銲料,進行適當的熱處理製程;(ii)在該基板元件上再鍍上適當厚度的銲料;其中,該薄銲料經過適當的熱處理後,會與金屬墊之金屬反應形成一薄的介金屬化合物,因此可以在之後的迴銲製程抑制介金屬化合物的生成速率之效果,藉以減緩微小接點銲料與金屬墊上的金屬反應變成介金屬化合物。一旦介金屬化合物成長速率能被減緩,錫晶鬚(Sn whisker)的成長也可以被抑制。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.title | 用於減緩介金屬化合物成長之方法 | zh_TW |
dc.type | Patents | en_US |
dc.citation.patentcountry | TWN | zh_TW |
dc.citation.patentnumber | 201308451 | zh_TW |
Appears in Collections: | Patents |
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