標題: | 非揮發性半導體記憶體裝置 |
作者: | 林鴻志 林哲民 |
公開日期: | 16-十二月-2012 |
摘要: | 本發明提供一種非揮發性半導體記憶體裝置,具有共用背閘極的獨立雙閘極SONOS記憶胞陣列的非揮發性記憶體結構,可應用於三維積成的快閃記憶體上。此種結構由於獨立雙閘極的控制,具有改善短通道效應、高寫入或抹移除效率,及有效避免讀取干擾等操作特性上的優點,藉由共用背閘極以及無接面的特性,可大幅簡化製程。 |
官方說明文件#: | G11C016/12 H01L021/8247 H01L027/115 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/103343 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | 201250694 |
顯示於類別: | 專利資料 |