完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 陳冠能 | en_US |
dc.contributor.author | 張耀仁 | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:12:03Z | - |
dc.date.available | 2014-12-16T06:12:03Z | - |
dc.date.issued | 2012-09-16 | en_US |
dc.identifier.govdoc | H01L023/52 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/103384 | - |
dc.description.abstract | 本發明提供一種三維互補式金屬氧化物半導體元件,其包含有一底部晶圓,其上形成含有一應力製程的第一型金屬氧化物半導體(MOS);一採面對面或背對面堆疊於底部晶圓上方之頂部晶圓,其上形成一含有應力製程且正對第一型MOS的第二型MOS與數個金屬襯墊,頂部晶圓內形成有數個連接至金屬襯墊的TSV;以及一混合式接合層,其位於底部晶圓與頂部晶圓間且包含有金屬接合區與非金屬接合區,金屬接合區是用以電性連接第一與第二型MOS至TSV,非金屬接合區是填充於金屬接合區外的剩餘空間,以接合底部晶圓與頂部晶圓。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.title | 三維互補式金屬氧化物半導體元件 | zh_TW |
dc.type | Patents | en_US |
dc.citation.patentcountry | TWN | zh_TW |
dc.citation.patentnumber | 201238024 | zh_TW |
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