標題: | 電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層及其製備方法 |
作者: | 陳智 杜經寧 劉道奇 |
公開日期: | 1-四月-2014 |
摘要: | 本發明係有關於一種電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層、其製備方法、以及包含其之基板。本發明之電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層之50%以上的體積包括複數個晶粒,該複數個晶粒彼此間係互相連接,該每一晶粒係由複數個奈米雙晶沿著[111]晶軸方向堆疊而成,且相鄰之該晶粒間之堆疊方向之夾角係0至20度。本發明之電鍍沉積之奈米雙晶銅金屬層具有非常好的抗電遷移性、硬度以及楊式係數,可以大幅度的提升電子產品的可靠度。生產成本低且與半導體製程完全相容。 |
官方說明文件#: | C25D003/38 C25D007/12 H05K001/05 B82Y040/00 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/103897 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | I432613 |
顯示於類別: | 專利資料 |