標題: | 用於減緩介金屬化合物成長之方法 |
作者: | 陳智 杜經寧 蕭翔耀 |
公開日期: | 11-三月-2014 |
摘要: | 本發明係有關於一種用於減緩介金屬化合物成長之方法,步驟包含:(i)製備一基板元件,包括在一基板上電鍍至少一金屬墊層,接著在該金屬墊層上電鍍至少一很薄的一薄銲料,進行適當的熱處理製程;(ii)在該基板元件上再鍍上適當厚度的銲料;其中,該薄銲料經過適當的熱處理後,會與金屬墊之金屬反應形成一薄的介金屬化合物,因此可以在之後的迴銲製程抑制介金屬化合物的生成速率之效果,藉以減緩微小接點銲料與金屬墊上的金屬反應變成介金屬化合物。一旦介金屬化合物成長速率能被減緩,錫晶鬚(Sn whisker)的成長也可以被抑制。 |
官方說明文件#: | H01L021/60 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/103975 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | I430377 |
顯示於類別: | 專利資料 |